锦州市润佳真空设备科技有限公司
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FTZKDM-998多功能真空镀膜机
真空镀膜技术基片升温低，沉积速率高为主要特点，该沉积工艺在电导膜、光学膜、保护膜、装饰膜等诸多方面都有广泛应用。本设备是集磁控溅射和弧源为一体较为先进的生产设备，可生产不同规格的金属膜产品。
主要技术指标：
01、整机外形尺寸：3200×1600X2438mm（长×宽X高）
真空室外形尺寸：Φ998×700mm（有水冷）
02、极限真空度：6.7×10-4 Pa
03、恢复真空度：清洁空炉由大气抽至6.7×10-3 Pa≤30 min
04、压升率：6 Pa/ h（清洁空炉）
05、功率：
磁控源电源功率：10KVA
弧电源功率：3KVA
06、矩形磁控靶材尺寸：384×131×12mm
07、弧源靶材尺寸：φ100×70mm
08、烘烤温度：0～500 ℃
09、冷却水 ：流量： 20～35 L / min
10、充气系统：质量流量计3路显示