Zibo Gaiyi Chemical Equipment Co., Ltd.
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FTZKDM-998多功能真空镀膜机
真空镀膜技术基片升温低,沉积速率高为主要特点,该沉积工艺在电导膜、光学膜、保护膜、装饰膜等诸多方面都有广泛应用。本设备是集磁控溅射和弧源为一体较为先进的生产设备,可生产不同规格的金属膜产品。
主要技术指标:
01、整机外形尺寸:3200×1600X2438mm(长×宽X高)
真空室外形尺寸:Φ998×700mm(有水冷)
02、极限真空度:6.7×10-4 Pa
03、恢复真空度:清洁空炉由大气抽至6.7×10-3 Pa≤30 min
04、压升率:6 Pa/ h(清洁空炉)
05、功率:
磁控源电源功率:10KVA
弧电源功率:3KVA
06、矩形磁控靶材尺寸:384×131×12mm
07、弧源靶材尺寸:φ100×70mm
08、烘烤温度:0~500 ℃
09、冷却水 :流量: 20~35 L / min
10、充气系统:质量流量计3路显示