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Zibo Gaiyi Chemical Equipment Co., Ltd.

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FTZKDM-998多功能真空镀膜机

FTZKDM-998多功能真空镀膜机

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产品描述

  真空镀膜技术基片升温低,沉积速率高为主要特点,该沉积工艺在电导膜、光学膜、保护膜、装饰膜等诸多方面都有广泛应用。本设备是集磁控溅射和弧源为一体较为先进的生产设备,可生产不同规格的金属膜产品。

 

主要技术指标:

  01、整机外形尺寸:3200×1600X2438mm(长×宽X高)

    真空室外形尺寸:Φ998×700mm(有水冷)

  02、极限真空度:6.7×10-4 Pa

  03、恢复真空度:清洁空炉由大气抽至6.7×10-3 Pa≤30 min

  04、压升率:6 Pa/ h(清洁空炉)

  05、功率:             

    磁控源电源功率:10KVA

    弧电源功率:3KVA

  06、矩形磁控靶材尺寸:384×131×12mm

  07、弧源靶材尺寸:φ100×70mm

  08、烘烤温度:0~500 ℃

  09、冷却水 :流量: 20~35 L / min

  10、充气系统:质量流量计3路显示

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