Zibo Gaiyi Chemical Equipment Co., Ltd.
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制粉镀膜机
产品描述
FTZKDM-998真空镀膜机参数
真空镀膜技术基片升温低,沉积速率高为主要特点,该沉积工艺在电导膜、光学膜、保护膜、
装饰膜等诸多方面都有广泛应用。本设备是集磁控溅射和弧源为一体较为先进的生产设备,
可生产不同规格的金属膜产品。
主要技术指标
1. 整机外形尺寸:3200*1600*2438mm(长x宽x高)
真空室外型尺寸:φ998x700mm(有冷水)
2.极限真空度:6.7x10-4Pa
3.恢复真空度:清洁空炉由大气抽至6.7x10-3Pa≤30min
4.压升率:1Pa/h(清洁空炉)
5功率:
磁控源电源功率:10KVA
弧电源功率:3KVA
6.矩形磁控靶材尺寸:384x131x12mm
7.弧源靶材尺寸:φ100x70mm
8.烘烤温度:0~500℃
9.冷却水:流量:20~35L/min
10.充气系统:质量流量计 3路显示
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