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Zibo Gaiyi Chemical Equipment Co., Ltd.

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制粉镀膜机

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产品描述

FTZKDM-998真空镀膜机参数

真空镀膜技术基片升温低,沉积速率高为主要特点,该沉积工艺在电导膜、光学膜、保护膜、

装饰膜等诸多方面都有广泛应用。本设备是集磁控溅射和弧源为一体较为先进的生产设备,

可生产不同规格的金属膜产品。

主要技术指标

1.  整机外形尺寸:3200*1600*2438mm(长x宽x高)

  真空室外型尺寸:φ998x700mm(有冷水)

2.极限真空度:6.7x10-4Pa

3.恢复真空度:清洁空炉由大气抽至6.7x10-3Pa≤30min

4.压升率:1Pa/h(清洁空炉)

5功率:

   磁控源电源功率:10KVA

   弧电源功率:3KVA

6.矩形磁控靶材尺寸:384x131x12mm

7.弧源靶材尺寸:φ100x70mm

8.烘烤温度:0~500℃

9.冷却水:流量:20~35L/min

10.充气系统:质量流量计 3路显示

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